お知らせ

2009年2月から新規蒸着機導入により、工場リニューアル予定。

光学薄膜　（Optical Thin Film)

硝子、プラスチック、結晶材料への各種蒸着加工を承ります。
分光特性は御指定の仕様に対して膜設計し、シュミレーションデータにて確認後、加工を行います。

■イオンアシスト法
イオンアシスト蒸着（IAD：Ion Assisted Deposition)は材料の付着強度や膜質をよくするために、イオン銃でたたきつける成膜方法です。
イオン銃が射出するイオンは運動エネルギーを持ち、速いスピードで基板の膜面に衝突します。
膜の機密性などの点で品質のよい薄膜の生成が可能です。
この方式で成膜したフィルターの吸収損失は極めて小さく、また膜応力も他のプラズマプロセスに比べて小さいという利点があります。

■イオンプレーティング法
通常の真空蒸着では蒸発物質はほぼ音速で対象物にぶつかりますが、イオンプレーティングでは微量ガスを導入しプラズマ化した中で蒸着し、蒸発物はイオン化され正の電位を帯び、負の電位を持つ対象物に対し音速の1万倍の高速で衝突します。
電気的吸引力により密着性の高い緻密な成膜が可能です。
これまでは主に切削工具、金型などの耐摩耗性を高めるために使われてきました。
真空蒸着では対象物を加熱した方が高品質の膜ができることが多いのですが、イオンプレーティングでは加速したイオンと運動量との交換で高いエネルギーを持つため、対象物を加熱する必要性が少ないことになります。